Dresden. Das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS hat im Rahmen des Projekts »SMut« ein neuartiges Messsystem zur Dünnfilmcharakterisierung entwickelt. Dieses System ermöglicht präzise Messungen unter variablen Bedingungen und hebt die Dünnfilmcharakterisierung Fraunhofer Dresden auf ein neues Niveau.
Innovatives Messsystem vorgestellt
Das Projekt »SMut« vereint die Kompetenzen des Fraunhofer IPMS mit den Partnern Credoxys und SweepMe!. Im Mittelpunkt steht die Entwicklung eines Messsystems, das aus einer Basisstation und mehreren Proben-Carriern besteht. Letztere können bereits unter Schutzgasatmosphäre in einer Glovebox mit Proben bestückt werden. Dadurch sind elektrische und photoelektrische Experimente unter unterschiedlichen Gaszusammensetzungen, Drücken und Temperaturen ausführbar.
Die Handhabung des Probencarriers ist so gestaltet, dass er auch Langzeitmessungen über mehrere Wochen ermöglicht. Dies ist ein entscheidender Fortschritt insbesondere für die Charakterisierung empfindlicher organischer Materialien. Mit dem neuen System kann die Reproduzierbarkeit der Messergebnisse deutlich verbessert werden.
Flexible und intuitive Software von SweepMe!
Ein wesentlicher Bestandteil des Projekts ist die Softwareentwicklung durch die SweepMe! GmbH. Diese erlaubt eine intuitive Konfiguration nahezu aller Messgeräte und Messroutinen. Dr. Axel Fischer, Geschäftsführer von SweepMe!, beschreibt die angestrebte Funktionalität:
„Die von uns im Projekt zu entwickelnde Softwarelösung ermöglicht erstmals eine intuitive und out-of-the-box nutzbare Charakterisierungsplattform.“
Für die Materialentwicklung ist dies besonders wichtig, da bis dato umfangreiche manuelle Anpassungen notwendig waren.
Chancen für die OLED-Materialforschung
Dr. Jörn Vahland von der Credoxys GmbH hebt die Vorteile des Messsystems speziell für die OLED-Forschung hervor. Langzeitmessungen unter kontrollierter Atmosphäre und Temperatur sind derzeit schwierig durchzuführen. Das neue Messsystem senkt diesen Aufwand erheblich und bietet verbesserte Möglichkeiten der Dünnschichtcharakterisierung.
„Mit diesem System wird ein neues Level der Dünnschichtcharakterisierung erreicht. Die Reproduzierbarkeit und die Messmöglichkeiten sind sensationell“, so Dr. Vahland.
Das Fraunhofer IPMS wird den Systemaufbau und das Grundkonzept auf der Messe Analytica in München der Öffentlichkeit präsentieren.
Weitere Schritte und Perspektiven
Die Entwicklung des Messsystems wird aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) sowie durch Steuermittel des Freistaates Sachsen finanziert. Interessierte können auf der Webseite des Fraunhofer IPMS individuelle Termine für Präsentationen auf der Analytica vereinbaren.
Das Fraunhofer IPMS plant, mit dem Abschluss des Projekts die Dünnfilmcharakterisierung Fraunhofer Dresden international sichtbarer zu machen und neue Standards in Forschung und Industrie zu etablieren.
Mehr Informationen zum Fraunhofer IPMS und dem Projekt »SMut« finden Sie auf regionalupdate.de sowie direkt beim Fraunhofer IPMS. Weiterführende Details zur Dünnfilmcharakterisierung bietet die Analytica Messe.
